光刻胶又称“光致抗蚀剂”，是一种对光敏感的混合液体。光刻胶可以与光线发生反应，让芯片材料上出现所需的精密电路图案，因此被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。
光刻是芯片制造所需要的关键步骤。从最早诞生于电路设计师的图纸中，到送去半导体车间经由光刻机反复光刻，中间经过数百道工艺的层层打磨，一颗崭新的芯片才正式诞生，在整个芯片制造过程中可能需要进行数十次的光刻。
光刻胶是光刻工艺中不可或缺的核心材料，在半导体制造环节中有着重要作用。光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片的性能越好，而光刻胶贯穿半导体光刻工艺中涂胶、曝光+显影、刻蚀、清洗等主要流程，所以光刻胶的质量直接决定了半导体产品的质量。
低端光刻胶已经实现了国内企业的自给自足，但是高端光刻胶却无法完全实现国内生产，一部分依旧是在依赖进口，故而现目前涌入的企业都将重心放在了研发上面，研发一旦有所成就，那么就是获得市场的关键一点，能让企业自身快速的在光刻胶领域站稳脚跟。
半导体材料是半导体制造工艺的基石，制程的进步推动半导体材料价值量增加，需求相应进一步提升。光刻胶行业作为半导体高壁垒赛道，有望迎来国产替代发展良机。
1、圣泉集团
公司生产的ppb级的高纯线性酚醛树脂还应用于半导体芯片并可作为光刻胶中的主成膜物，是不可或缺的高技术材料。公司自成立以来，通过持续科技创新，陆续推出铸造用环保型呋喃树脂，涂料，保温冒口等铸造辅助材料，各类环保型，耐热及增韧改性高性能酚醛树脂，印制电路板及光刻胶用电子级酚醛树脂，电子级环氧树脂及航空航天用高强度酚醛预浸料，高强低密度酚醛SMC，阻燃增强轻质酚醛轻芯钢，改性阻燃酚醛泡沫等产品。
2、宝通科技
公司是一家研发、生产光阻的厂家，主要产品为彩色滤光片用光阻黑色矩阵光阻、感光间隙材料，产品广泛适用于液晶显示屏、印刷电路和集成电路以及印刷制版等。该公司持续技术创新战略，凭借自身雄厚的科研实力，突破本土制造的长期技术瓶颈，已经成功开发出系列光刻胶产品。
3、容大感光
公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。公司的PCB感光线路油墨具备以下特点：感光速度快，解像度高，附着力好，抗电镀，抗蚀刻性好，容易褪膜等特点，公司的PCB感光阻焊油墨除具备常规性能外，还有工艺使用宽容度大，耐热冲击性好，批次稳定性高等特点。
4、东材科技
公司与韩国Chemax、种亿化学共同投资设立合资公司，拟重点开展高端光刻胶材料的合成与纯化业务，积极布局先进光刻胶材料领域。公司生产的光学级聚酯基膜主要用于智能手机2.5D/3D前后盖玻璃防护、触摸屏（ITO）模组、偏光片制程配套等应用领域，终端产品主要为平板电脑、智能手机、车载显示等中小尺寸移动终端。目前，公司已率先推出OCA离型基膜、ITO高温保护基膜、偏光片离型基膜三款产品，正处于进口替代的市场推广阶段。
5、苏大维格
公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备——光刻机，建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系，为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。公司牵头的国家重大科学仪器设备开发专项“纳米图形化直写与成像检测仪器的研发与应用”项目通过综合验收，在该项目支持下，公司成功研发了70吋幅面的微纳3D直写光刻设备。
6、雅克科技
雅克科技子公司斯洋国际有限公司与LGCHEM,LTD.（LG化学）签署《业务转让协议》，以亿韩元（折合人民币约3.35亿元）购买其下属的彩色光刻胶事业部的部分经营性资产，标的资产主要包括与彩色光刻胶业务相关的部分生产机器设备、存货、知识产权类无形资产、经营性应收账款等。
7、赛微电子
公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。公司积极布局第三代半导体材料及器件、无人系统等潜力业务，公司目前的第三代半导体业务主要是指GaN（氮化镓）材料的生长与器件的设计，公司已成功研制8英寸硅基氮化镓外延晶圆，且正在持续研发氮化镓器件，该等材料及器件可广泛应用于5G通讯、云计算、数据中心、新型电源等领域。
8、上海新阳
公司为拓展业务范围及产品应用领域，投资设立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。公司与Heraeus签署了《合作备忘录》，计划共同开发半导体行业用光刻胶产品及相关材料。贺利氏科技集团总部位于德国哈瑙市，业务涵盖环保，电子，健康和工业应用等领域。公司与贺利氏科技集团签署该协议，旨在完善光刻胶供应链，为光刻胶项目的开展提供材料和技术保障。
9、炬光科技
公司多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件——光场匀化器（招股书中“光场匀化器——光刻应用”），供应给世界顶级光学企业A公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。同时，公司与国内在这一领域的研发单位有广泛合作，公司的光场匀化器产品应用于国内主要光刻机研发项目和样机中。
10、南大光电
公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。近日拿到首个订单，拟进行小批量生产，目前尚未签署大批量订单。公司承接的国家02专项之“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目通过了专家组的绩效评价验收，项目已建成年产25吨的生产线，为ArF光刻胶的规模化量产奠定了基础。目前多款产品正在多家客户同时进行认证，市场拓展工作抓紧推进，争取尽快实现批量销售。#A股#